為下道工序的質(zhì)量打好基礎(chǔ)，清洗主要參數(shù)、工藝流程見《清洗作業(yè)指導(dǎo)書》。

5-2-3、涂膠：

涂膠是光刻的首道工序，它是在ITO玻璃ITO面上均勻涂一層光刻膠，LCM液晶顯示屏

但上下液晶分子取向呈扭曲排列、整體扭曲900，TN-LCD是人們發(fā)現(xiàn)最早，也是應(yīng)用最廣，數(shù)量最多，價(jià)格最便宜的顯示器。

3-2-2STN-LCD是SuperTwistLiquidCrystalDisplay的簡(jiǎn)稱。即超扭曲向列型LCD.它與TN-LCD的結(jié)構(gòu)相似，不同的是它的扭曲角不是900，

涂膠的效果好壞直接影響光刻的質(zhì)量，它主要控制的內(nèi)容為：光刻膠的配制，涂層厚度及均勻性，涂層表面狀態(tài)等。

5-2-9．脫膜：

脫膜就是把刻蝕后的玻璃上的光刻膠除去正常脫膜一般用一定溫度的堿液，LCM液晶顯示屏

3．LCD分類

3-1液晶顯示器的種類很多，按顯示方式可分為透射、反射的直視和投影型顯示器。

3-1-1透射型LCD北面裝有熒光燈，電致發(fā)光極等光源。因而在昏暗的環(huán)境光

下也能使用。

3-1-2反射型就是一種將鋁箔光反射片貼在LCD背面玻璃基板的外面，使其反射LCD的入射光，用于顯示。在TN和STN模式中

它的濃度需高于顯影濃度。一般以上幾個(gè)工藝過程稱為光刻過程，其在LCD制遷中起著關(guān)鍵性的作用，光刻質(zhì)量的好壞直接影響到器件的性能、成品率和可靠性。光刻質(zhì)量的基本要求如下：

①刻蝕的圖形完整，尺

5-2-18、LCM液晶顯示屏

由以上可知液晶分子的排列并不象晶體結(jié)構(gòu)那樣牢固，所以容易受到電場(chǎng)，磁場(chǎng)、溫度應(yīng)力以及吸附雜質(zhì)等外部影響。因而容易使其各項(xiàng)光學(xué)特性發(fā)生變化。液晶的這種作用力微弱的分子排列正是液晶有今日之廣闊市場(chǎng)的關(guān)鍵條件。液晶具有固定的偶極矩，所以施加電場(chǎng)可使液晶分子軸發(fā)生移動(dòng)，于是液晶分子的排列發(fā)生改變。

切割：

切割時(shí)須注意以下幾點(diǎn)：
①認(rèn)準(zhǔn)基準(zhǔn)刀位；
②確定所切的玻璃需切幾刀幾次；
③須明白大小片的區(qū)分、及A、B組的切割方向；
④切割的是否精確，對(duì)后工序作業(yè)及產(chǎn)品的檔次很關(guān)鍵，切割時(shí)需按時(shí)、按流程作自主檢查。以免跳刀、走刀、刮刀、切反，誤差大、刀深、刀線等不良造成不